账号:
密码:
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
盛美半导体进军乾式晶圆制程设备市场
 

【CTIMES/SmartAuto 报导】   2020年05月04日 星期一

浏览人次:【2543】
  

晶圆清洗设备供应商盛美半导体,发布了立式炉设备(Ultra Furnace),这是可为多种乾式制程应用所开发的系统。首台立式炉设备优化後可实现高性能的低压化学气相沉积(LPCVD)应用,同时该设备平台还可延伸至氧化和退火,以及原子层沉积(ALD)等应用。此次的立式炉设备也展现了盛美中国和韩国研发团队为时两年的合作成果。

盛美半导体发布了可为多种乾式制程应用所开发的立式炉设备。
盛美半导体发布了可为多种乾式制程应用所开发的立式炉设备。

沉积制程是指,在高温下化学气体在晶圆表面上反应形成氧化矽或者氮化矽膜层。Ultra Furnace立式炉系统可用於批量处理多至100片12英寸(300毫米)晶圆。创新的系统设计使用了新开发的硬体,提高了耐用性,同时搭载了盛美成熟的软体技术、专有的控制系统和演算法。这些特点保证了设备能稳定地控制制程压力、气体流量和温度。

目前盛美Ultra Furnace立式炉主要面向LPCVD制程市场,後续只需对其元件和布局进行一些局部变更,就可满足其它目标应用需求。85%左右的硬体设定可保持不变,所以可有效地应对新应用的变动。

盛美半导体Ultra Furnace立式炉目标市场以中国大陆为起点,逐步向韩国和台湾市场推进。盛美已於2020年初,向中国一家重要的逻辑客户的制造工厂交付了第一台Ultra Furnace。该设备用於LPCVD,目前已经在用户端安装并进行验证。

盛美半导体设备董事长王晖表示,先进的技术节点带来了持续的挑战,这就要求设备供应商进行创新。而这种市场需求给盛美提供了重要的机会。不断创新是盛美的DNA。我们发现了可以受益於我们技术的市场需求,所以就将技术延伸至该新的细分市场,在盛美已建立的湿法制程产品系列上增加了Ultra Furnace立式炉产品系列,这样既可以为客户的先进产品提供整体解决方案,同时又扩大了我们的市场商机。

盛美半导体韩国公司执行长金泳律说,Ultra Furnace立式炉产品是由中国和韩国的专业团队合作开发差异化技术的成果。盛美韩国团队的成立让上海团队如虎添翼,加速了我们进军市场的速度,也可给本土的客户提供优秀的技术支援。

相关新闻
软硬体合推新一代混合云架构 促企业加速享用AI运算技术
革新全球纺织业 Frontier运用AWS打造数位布料平台
IDC台湾公布2020数位转型大奖 国泰人寿拔得头筹
仁宝和ANSYS以电磁模拟方案加速5G笔电开发
是德与高通、SGS携手 加速推动蜂巢式V2X先进测试
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关新品
  相关产品
» 盛美半导体推出先进储存器应用之18腔单晶圆清洗设备
» 英飞凌推出全新OptiMOS 6 40 V 系列:具备优异的RDS(on)与切换效能
» NVIDIA、微软、Epic Games、Unity及各大游戏开发商於GDC 2019启动次世代游戏
» Microchip推出全新双核和单核dsPIC数位讯号控制器系列
» Diodes的双极电晶体采用3.3mm x 3.3mm封装并提供更高的功率密度
  相关文章
» 用於射频前端模组的异质三五族CMOS技术
» 面对FO-WLP/PLP新制程技术的挑战与问题
» 类比晶片需求强烈 8寸晶圆代工风云再起
» 异质整合 揭??半导体未来20年产业蓝图
» 再见摩尔定律?

AD


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2020 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3
地址:台北市中山北路三段29号11楼 / 电话 (02)2585-5526 / E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw